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タイトル: Effect of Inductively Coupled Plasma Etching in p-Type GaN Schottky Contacts
著者: Shiojima, Kenji
Takahashi, Toshifumi
Kaneda, Naoki
Mishima, Tomoyoshi
Nomoto, Kazuki
キーワード: GaN
Schottky contact
ICP
damage
発行日: 2013
出版者: 公益社団法人 応用物理学会
掲載誌: Japanese Journal of Applied Physics
巻: 52
号: 8
資料タイプ: Journal Article
記述: 本著作物の著作権は公益社団法人応用物理学会に帰属します。/©(公社)応用物理学会 2013/© 2013 The Japan Society of Applied Physics
URI: http://hdl.handle.net/10098/7599
http://hdl.handle.net/10461/25016
ISSN: 13474065
00214922
出現コレクション:01 雑誌等掲載論文

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Abstract-JJAP-52-08JJ08.html

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