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第43巻(1995) >

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タイトル: ポーラスSiをターゲットとするレーザーアブレーション法を用いた薄膜の作成及び評価
その他のタイトル: Depositions and Characterizations on Thin Films Formed by a New Laser Ablation from Porous Si Targets
著者: 加藤, 正幸
愛場, 喜孝
大久保, 貢
山本, 暠勇
橋本, 明弘
KATO, Masayuki
AIBA, Yoshitaka
OHKUBO, Mitsugu
YAMAMOTO, Akio
HASHIMOTO, Akihiro
発行日: 9月-1995
掲載誌: 福井大学工学部研究報告
巻: 43
号: 1
資料タイプ: Departmental Bulletin Paper
URI: http://hdl.handle.net/10098/3624
http://hdl.handle.net/10461/20618
ISSN: 04298373
出現コレクション:第43巻(1995)

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