DSpace DSpace
 

Community Repository of Fukui (CRFukui) >
D01 福井大学 >
310 大学院工学研究科・工学部 >
311 学術雑誌論文 >
01 雑誌等掲載論文 >

このアイテムの引用には次の識別子を使用してください: http://hdl.handle.net/10461/20429

タイトル: A new photocatalyzer InNxOy film grown by ArF excimer laser-induced MOCVD at low temperature (RT∼200 °C)
著者: YAMAMOTO, A
MIYANISHI, M
KUNISHIGE, T
KOBAYASHI, T
HASHIMOTO, A
NAMBO, Y
キーワード: A3. Metalorganic chemical vapor deposition
B1. Nitrides
B2. Semiconducting indium compounds
発行日: 1月-2007
出版者: Elsevier
掲載誌: Journal of crystal growth
巻: 298
資料タイプ: Journal Article
URI: http://hdl.handle.net/10098/1878
ISSN: 00220248
出現コレクション:01 雑誌等掲載論文

このアイテムのファイル:

ファイル サイズフォーマット
A new photocatalyzer InNxOy film.pdf

このリポジトリに保管されているアイテムはすべて著作権により保護されています。